Title information : Preparation and gas-sensing properties of very thin sputtered NiO films / aut. Ivan Hotový, Vlastimil Řeháček, Martin Kemény, Peter Ondrejka, Ivan Kostič, Miroslav Mikolášek, Lothar Spiess Variant heading : \q12*stu_us_auth*1 stu9837 \q \q1013 stu_us_auth*stu9837 \d Hotový Ivan \q ; 033000  %continue : \q12*stu_us_auth*1 stu36850 \q \q1013 stu_us_auth*stu36850 \d Řeháček Vlastimil \q ; 033000 \q12*stu_us_auth*1 0024559 \q \q1013 stu_us_auth*0024559 \d Kemény Martin \q ; 033000 \q12*stu_us_auth*1 0024553 \q \q1013 stu_us_auth*0024553 \d Ondrejka Peter \q ; 033000 \q12*stu_us_auth*1 stu58360 \q \q1013 stu_us_auth*stu58360 \d Kostič Ivan \q \q12*stu_us_auth*1 stu59072 \q \q1013 stu_us_auth*stu59072 \d Mikolášek Miroslav \q ; 033000 \q12*stu_us_auth*1 stu36840 \q \q1013 stu_us_auth*stu36840 \d Spiess Lothar \q In : \q12**1 0087930 \q %continue : Journal of Electrical Engineering : %continue : . Vol. 72, No. 1 (2021), s. 61-65 Subject : \q12*stu_us_auth*1 0093316 \q \q1013 stu_us_auth*0093316 \d NiO films \q \q12*stu_us_auth*1 0093317 \q \q1013 stu_us_auth*0093317 \d reactive magnetron sputtering \q \q12*stu_us_auth*1 0093318 \q \q1013 stu_us_auth*0093318 \d alumina substrate \q \q12*stu_us_auth*1 0093319 \q \q1013 stu_us_auth*0093319 \d gas sensors \q \q12*stu_us_auth*1 stus44011 \q \q1013 stu_us_auth*stus44011 \d acetone \q \q12*stu_us_auth*1 stus21454 \q \q1013 stu_us_auth*stus21454 \d toluene \q \q12*stu_us_auth*1 0093320 \q \q1013 stu_us_auth*0093320 \d n-butyl acetate \q URL : https://search.proquest.com/docview/2502395681?pq-origsite=gscholar&fromopenview=true Document kind : článok z periodika Category : ADN - 13/NOVÉ Vedecké práce v domácich časopisoch registrovaných v databázach Web of Science alebo SCOPUS Category (from 2022) : V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu