Number of the records: 1
HWCVD technology of silicon carbide thin films: Properties
SYS 0009210 LBL 00000naa--22^^^^^-a-4500 003 SK-STU 005 20221104210010.2 007 ta 008 151123s^^^^-----------e------000-0-----d 040 $a STU $b slo 041 0-
$a eng 100 1-
$7 stu_us_auth*stu58279 $a Huran, Jozef $r Z5 $4 aut $9 16 245 10
$a HWCVD technology of silicon carbide thin films: Properties / $c aut. Jozef Huran, Miroslav Mikolášek, Pavol Boháček, Angela Kleinová, Vlasta Sasinková, Alexander P Kobzev, Mária Sekáčová, J Arbet 650 04
$7 stu_us_auth*0006627 $a SiC 650 04
$7 stu_us_auth*0006628 $a HWCVD 650 04
$7 stu_us_auth*0006629 $a structural and electrical characterization 650 04
$7 stu_us_auth*0006630 $a solar structure 700 1-
$7 stu_us_auth*stu59072 $a Mikolášek, Miroslav, $d 1983- $u 033000 $r Z2 $4 aut $9 12 $U FEI Fakulta elektrotechniky a informatiky $T FEI Ústav elektroniky a fotoniky $X 27049 $U E030 $Y 549 700 1-
$7 stu_us_auth*stu58273 $a Boháček, Pavol $r Z5 $4 aut $9 12 700 1-
$7 stu_us_auth*stu119407 $a Kleinová, Angela $r Z5 $4 aut $9 12 700 1-
$7 stu_us_auth*stu60811 $a Sasinková, Vlasta $r Z5 $4 aut $9 12 700 1-
$7 stu_us_auth*stu58365 $a Kobzev, Alexander P. $r Z6 $4 aut $9 12 700 1-
$7 stu_us_auth*stu58295 $a Sekáčová, Mária $r Z5 $4 aut $9 12 700 1-
$7 stu_us_auth*0001357 $a Arbet, J. $r Z5 $4 aut $9 12 773 0-
$w stu_us_cat*0005314 $t ADEPT 2015 $b 1. vyd. $h 334 s. $z 978-80-554-1033-3 $7 m2am $a 3rd international conference on advances in electronic and photonic technologies $d Žilina : University of Žilina, 2015 $g S. 104-107
Number of the records: 1